生产型GaNMOCVD设备控制系统软件设计
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上传人：胡晓宇、何华云 上传时间： 2013-08-14 浏览次数： 88 |
| 作者 | 胡晓宇、何华云 |
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| 单位 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所、中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 分类号 | TN304.05;TP311.52 |
| 发表刊物 | 《电子工业专用设备》 |
| 发布时间 | 2006年 |
1 引言
金属有机化合物化学气相外延(MOCVD：Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 是制造超薄层微结构(低维半导体材料)最常用、成本较低、生产量大的制备方法之一，有着广阔的市场前景。国际上MOCVD 技术已经相当成熟，形成了产业化规模(6 片、19 片、24 片及30 片以上等)。国内由于种种原因发展非常有限，只在研究所和大学实验室进行相关的研发工作，尚未形成产业化，而生产型的GaN MOCVD 设备完全依赖进口。
......
1、引言
2、GaN MOCVD 控制系统结构
3、国外部分控制系统简介
4、GaN MOCVD 控制系统自主开发关键技术
5、国内MOCVD 计算机控制系统研究进展
6、MOCVD 控制技术发展趋势
7、结束语
8、致谢
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