Si衬底高效大功率紫外LED灯珠——2015神灯奖申报技术
摘要: Si衬底高效大功率紫外LED灯珠,为晶能光电(江西)有限公司2015神灯奖申报技术。
项目名称:
Si衬底高效大功率紫外LED灯珠
申报单位:
晶能光电(江西)有限公司
综合介绍或申报理由:
公司量产的紫外LED灯珠性能和国际主流的日本、韩国公司同类产品性能相当,峰值外量子效率达到了67%,和蓝光LED相当。目前已经批量出口韩国。晶能光电紫外LED的主要技术优势在于:自主知识产权和独立技术路线的硅衬底外延技术;采用垂直LED芯片结构,提高了出光效率,散热好,可以承受高的电流密度,是紫外LED的最佳芯片结构;采用的大功率陶瓷封装技术,产品可靠性高、非常适合应用于大电流密度的紫外LED。
主要技术参数:
芯片尺寸:45 x 45 x 6 mil
封装尺寸:3.5mm x 3.5mm x 2.0mm
Vf:2.8V-3.6V,主波长:390nm-405nm
光功率Po:封装后紫光功率 600-750mW@350mA
与国内外同类产品或同类技术的比较情况:
目前广泛用于照明、显示等可见光领域的GaN基蓝、绿光和白光LED市场竞争激烈,已经成为“深红海”。因此,市场逐渐向被一直认为是“蓝海”的紫外(UV)波段渗透。但是,紫外LED由于制作技术要求高所以生产厂商并不多。当前紫外LED市场被日亚、LG、首尔半导体,以及台湾光宏等一线厂商所把持。
晶能公司量产的紫外LED灯珠性能和国际主流的日本、韩国公司同类产品性能相当,峰值外量子效率达到了67%,和蓝光LED相当。目前已经批量出口韩国。晶能光电紫外LED的主要技术优势在于:自主知识产权和独立技术路线的硅衬底外延技术;采用垂直LED芯片结构,热电分离,提高了出光效率,散热好,可以承受高的电流密度,是紫外LED的最佳芯片结构;采用的大功率陶瓷封装技术,产品可靠性高、散热性能好,具有更好的大电流工作性能,非常适合应用于大电流密度的紫外LED。是名符其实“中国芯的中国灯珠”。
经济评价分析:
360-410nm的紫外LED可以应用于新型农业植物照明、医疗美容、验钞、昆虫诱捕灭杀、显影、空气净化、防伪、以及固化。固化广泛用于各行各业,目前占据整个应用的50%,涵括电子、光子、生物、医学等领域。例如油墨印刷、3D打印、显示屏、太阳能面板、光纤接头、相机模组、点固化、针头连接等等。
技术及工艺创新要点:
技术原理:
1.采用独特的适用于紫外发光的外延结构设计。主要技术原理有: 1)采用多种应力释放层和位错过滤层在Si衬底上制作高质量的GaN。2)采用设计独特的发光层,克服了InGaN发光层中的铟组分低,从而发光效率低的问题,使得紫外LED的发光效率和蓝光LED相当。3)紫光LED的光子能量高,量子阱的禁带宽度大,采用设计独特的电流阻挡层来将载流子限制在发光层中,提高了载流子的辐射复合率。
2. 采用垂直芯片结构。主要技术原理有:1)采用高反射率的Ag作为P-GaN欧姆接触层也是反射金属层。2)通过晶圆键合技术实现衬底转移,并对N-GaN表面做粗化处理。3)由于Si衬底易于腐蚀,所以良率比常用的激光剥离易于控制,成本低,良率高,对芯片的伤害小,从而可靠性更好。芯片的设计侧面示意图如下图所示:
3. 利用AuSn共晶焊技术,将倒装大功率LED芯片与3535陶瓷基板相结合,使产品具有低Vf,低热阻以及高可靠性的特点。适合于用于大驱动电流,高热量,高可靠性的紫外LED光源。
关键技术及创新点:
晶能光电的Si衬底上高效大功率紫外LED垂直芯片和灯珠具有鲜明的技术特点和创新点,具体分为三个方面:
1.晶能光电的硅衬底上紫外LED主要技术优势在于自主知识产权和独立技术路线的外延技术。紫外LED因为波长短,,晶能采用独特的发光层设计,克服了InGaN发光层中的Indium百分比低发光效率低于蓝光的问题,制作出了效率和蓝光LED相当的紫外LED。同时Si衬底上的外延易于实现衬底剥离,良率高于传统衬底剥离技术。
2.垂直结构LED芯片,可以做到热电分离,因此有散热好、可靠性高的特点;由于电流扩散均匀,可承受高的电流密度;垂直结构还有出光效率高,单面出光、适合于方向光的特点。因此垂直结构是尤其适合功率紫外LED的芯片结构,因为紫外LED大多在过驱动电流下应用于需要出发光有方向性的领域。垂直芯片还有封装打线简单的优点,适合陶瓷封装。晶能的Si衬底上紫外LED技术有我国自主知识产权,是名符其实的“中国芯”。
3.陶瓷封装由于具有导电优良、热传导性好和机械强度高的特点,适合于大电流,大功率,以及可靠性要求高的LED产品,所以非常适合需要应用于大电流密度的紫外LED。
实际运用案例和用户评价意见:
申报单位介绍:
晶能光电有限公司是由金沙江、淡马锡等多家著名的投资机构共同投资,专门从事LED外延材料与芯片生产的高科技企业,目前注册资金2亿美元。 晶能光电拥有的硅衬底氮化镓基LED材料与器件技术是一项改写半导体照明历史的颠覆性新技术,具有原创技术产权,迄今为止已申请或获得国际国内各种专利230多项。国家863专家组对此项技术的评价是:“……打破了目前日本日亚公司垄断蓝宝石衬底和美国Cree公司垄断碳化硅衬底半导体照明技术的局面,形成了蓝宝石、碳化硅、硅衬底半导体照明技术方案三足鼎立的局面。” 晶能光电目前拥有21台MOCVD设备,总投资已超过10亿元。目前主营的产品包括大中小功率硅衬底LED芯片。
产品图片:
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