日前，因研制出高亮度蓝光LED而荣获2014年度诺贝尔物理学奖的中村修二公开表示，希望能与老东家日亚化学改善关系，忘记过去的不愉快。“我们双方都存在误会，我不希望把这场争吵带进坟墓。”这位60岁的日裔美籍科学家表示。

　　我国企业如何吸取教训?

　　我国对于科学家的职务发明和非职务发明，也同样缺乏明确的界限。反观美国企业，与员工事先签订合同，确定利益分成，这非常值得我们借鉴。

　　中村修二口中的“不愉快”和“争吵”，指的是他与老东家日亚化学之间，围绕其蓝光LED发明专利长达20年之久的纠纷。当年，尽管在日亚受到各种怀疑和排挤，中村还是排除万难，以“愤怒”为动力完成了蓝光LED的研制。日亚随即以公司的名义申请了专利，开始大量生产产品，并从中获得了近2000亿日元收益，从一家默默无闻的小公司摇身一变成为世界最大的LED公司。而中村仅仅获得了两万日元(约合人民币1042万元)的奖金。

　　重压之下，中村选择离开日亚，前往美国加州大学圣巴巴拉分校任职。但是由于拒绝签署“3年内不再从事蓝光LED的基础技术研究”的合同，在日亚工作了20年的中村修二没能领到退职金。之后，日亚甚至追到美国，继续要求中村签署该合同。再次遭拒后，日亚以泄露企业秘密为由，将中村告上法庭。

　　中村忍无可忍，向日亚提起反诉，要求其支付发明补偿金。其间，中村曾胜诉，法院判决日亚应支付中村补偿金200亿日元。但是最终，在日亚上诉后，这场历时5年的专利诉讼以日亚向中村支付8.4亿日元(约合人民币4375万元)达成庭外和解。

　　“为此，中村一再诟病日本的科研环境和专利制度。”工业和信息化部软件与集成电路促进中心知识产权处专利分析师罗佳秀在接受记者采访时表示，“而我国企业应从中吸取教训。”

　　她表示，因为该发明不属于职务发明，在研究遇挫时，日亚化学还一度中止了中村修二的研究。日本专利法第35条规定：“专利属于发明者个人。如由于聘用合同等契约方面的原因而必须转让给企业的话，企业必须支付相当的报酬。”“这样显然缺乏可操作性。同样，长期以来，我国对于科学家的职务发明和非职务发明，也同样缺乏明确的界限。反观美国企业，与员工事先签订合同，确定利益分成，这非常值得我们借鉴。”她说。

　　对于国内企业如何避免类似的专利纠纷，罗佳秀建议，首先，要尽早解决技术发明权的归属问题;其次，要做好对核心员工的激励，在不损害企业利益的前提下，设法采取各种手段来满足核心技术员工的各类需求，达到留住这些员工的目的;最后，在核心技术的开发模式方面，要设法促进知识传递，避免知识掌握在少数人手中。

　　专利壁垒如何突破?

　　应该在充分考虑技术本身的性质、市场价值、司法途径的救济成本之后，再决定是以专利、商业秘密，还是两者结合的手段来对自身技术进行保护。

　　以较小的代价取得了中村修二在职参与的191件专利以及未提出专利申请而为公司珍藏的其他技术后，日亚化学凭借在蓝光LED及白光LED专利技术方面的霸主地位，掀起了疯狂的专利战浪潮，成为LED产业最积极的诉讼发起者。

　　在一场血雨腥风后，目前，几大国际巨头已经通过专利交叉许可结盟，对外垄断。那么，国内LED企业应该如何面对森严的专利壁垒，顺利发展壮大呢?

　　欧普照明总法律顾问余延华告诉记者，首先还是要加强企业创新，持续积累高质量的知识产权组合，这是一切专利攻防战的根基;其次，在产品开发流程中，要做好专利风险分析及规避设计;再次，面对诉讼时，要摆正心态，积极防御，不恋战也不畏战;最后，还要做好竞争对手产品专利侵权分析。

　　自身足够强大，才有机会和国际巨头强强联合，扬长避短。“我们一直致力于加强专利申请，技术领域涵盖LED外延、芯片、电极设计以及封装、应用等，专利布局比较均衡。”我国LED龙头企业三安光电综合管理部副经理邵小娟告诉记者，“为了打开海外市场，三安光电收购美国Luminus、参股台湾璨圆、携手SSC成立子公司、购买夏普发明专利等，在专利布局方面投入了大量精力。希望能够尽快打破国外企业的专利壁垒，扭转我国LED产业在专利方面的被动局面。”

　　对于LED设备的知识产权战略，国内首台MOCVD制造商中晟光电董事长陈爱华表示，高端装备的知识产权保护有其自身的特点，要进行灵活、有效的管理，而不是一味强调数量;对已用于和将用于产品的各项核心技术必须实施周密、有效的知识产权保护，专利申请的国度、不同层次和范围的专利布局、发明专利和实用新型专利的结合及专利申请时间的配合都要考虑到。“对于敏感的核心技术知识产权的保护，必须谨慎处理。”他强调。

　　“并不是说研发一取得成功，就一定要急于申请专利保护。”罗佳秀表示，“当前，国内企业技术水平和专利意识不断提高，与国外先进企业之间的差距也在不断缩小，更应该在充分考虑技术本身的性质、市场价值、司法途径的救济成本之后，再决定是以专利、商业秘密，还是两者结合的手段来对自身技术进行保护。”

　　另外，也不是说面对已有的专利就毫无机会。“在别人现有的专利中，也可以汲取创新点，比方说技术空缺、专利布局空隙、下位概念、结构替代(变形)、组分变化、工艺改进、技术移植等等。”上海硅知识产权交易中心总监张军告诉记者，“具体来说，如果某款LED专利对散热器形状、材质、供电电路类型等没有具体的要求，就为后续申请人留下了空间。所以说，对于后来者而言，选取好专利的‘缝隙’进行布局，也是达成交叉许可的好机会。”