爱发科上市生产效率为原来5倍的光学装置
2007-12-04
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来源：日经BP社
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摘要： 爱发科上市了生产效率高达原来5倍的量产用干蚀刻(Dry Etching)装置。主要面向发光二极管(LED)和激光二极管。计划从07年12月起开始供货，08年销售30～40台。价格为1亿2000万日元。
爱发科上市了生产效率高达原来5倍的量产用干蚀刻(Dry Etching)装置。主要面向发光二极管(LED)和激光二极管。计划从07年12月起开始供货，08年销售30～40台。价格为1亿2000万日元。
该装置采用了爱发科在化合物半导体市场上积累的工艺技术。用于LED生产时，原来只能放置1片100mm晶圆，而该装置可同时处理5片。此外，50mm晶圆的处理数量从8片提高至21片，75mm晶圆从4片提高至9片，从而提高了生产效率。
爱发科在化合物半导体(用于LED和激光二极管)、蓝宝石、碳化硅、贵金属和氧化膜等的蚀刻技术方面拥有丰富的经验技术。该公司将提供可实现上述处理应用(Process Application)的设备和工艺。
爱发科将以综合实力涉足以发光元件为主的化合物半导体市场，将供应干蚀刻装置、真空蒸着装置、溅射装置和化学气相沉积(CVD)装置等，今后将继续加强此类解决方案的开发。
另外，爱发科预定在“Semicon Japan 2007”(07年12月5～7日在千叶县幕张Messe会展中心召开)上展出该装置。（编辑：PCL）
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